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- Logoprint
- Strick
- Rippstrick
- Umgeschlagener Saum
- Fully fashioned
- Strukturierter Griff
- Beanie
- Material: 54% Polyester - PES, 20% Polyamid (Nylon®), 20% Polyacryl - PC, 6% Wolle
- Materialart: Feinstrick
- Ursprungsland: China
Herengracht 182
1016 BR Amsterdam
NL